주사전자현미경 (SEM with EDX) | 장비소개

용도

시료표면 미세관찰 및 원소 분석

장비설명

고속의 전자를 발사하면 이 전자가 시료 표면에 충돌하면서 상호작용하여 시료에서 전자와 같은 물질이 튀어나오는데 이를 분석하는 방법이며 광학 현미경과 근본적으로 같으나 가장 큰 차이점은 전자현미경은 빛 대신 전자선을 사용하는 것임

장비 차별성 및 특징

전자총에서 가속된 전자빔이 시료 표면에 조사될 때 이차전자, 투과전자, 후방산란전자 등이 발생되며 그 중 흡수전자는 전도성 시료인 경우 stage와의 접지를 통해 제거되지만 비전도성 시료는 시료 내부 또는 시료표면에 누적되는 charge-up 현상이 발생함. 이렇게 표면에 누적된 전자는 전자빔과 상호작용하여 이차전자의 발생과 검출에 영향을 미치게 되므로 진공증착장치나 이온코팅장치 등을 이용하여 샘플의 표면을 금속으로 코팅하는 과정을 거치게 됨. 본원 에

장비 주요특징

장비 운영 원리, 장비 활용 결과 예시

장비 성능 및 규격

· Resolution: 3 nm(25 kV)
· Magnification: 5 ~ 300,000
· 가속전압: 0.5 ~ 30 kV
· 무기원소 분석(EDX)

장비 활용 예

· 다공성 샘플의 모폴로지 관찰 · 합성 샘플의 표면 관찰 · EDX를 이용한 무기 원소 분석

장비이용 상담 및 신청

국방·안전보호신뢰성평가센터 선임연구원 ☎ 063-830-3576